CEPN新增「邁向零暴露TZE計畫」第三輪優先關注化學品　電子產業製程化學品管理趨勢持續升溫

ezGlobal
5月26日
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轉載 20260525 國際化學品政策宣導網

由美國 Clean Electronics Production Network（CEPN）推動的「邁向零暴露（Toward Zero Exposure, TZE）」倡議，近期於2026年4月公布第三輪（Round 3）優先關注化學品（Priority Chemicals）清單，新增10項電子製造製程中常見之高風險化學品。加上2019年第一輪與2023年第二輪公告內容，目前三輪清單已累積達35種優先關注化學品，作為電子產業製程化學品限制清單（Manufacturing Restricted Substances List, MRSL）的重要參考依據。

CEPN表示，TZE計畫的核心目標，在於透過品牌商與供應鏈共同合作，逐步淘汰電子製造過程中對工作者健康具有高風險的化學品，並推動更安全的替代方案與製程設計。參與並簽署TZE倡議的企業，需承諾於加入後三年內，優先針對CEPN列出的優先關注化學品進行淘汰或替代，同時透過年度公開報告與驗證機制，揭露執行情形與進展，以提升供應鏈透明度與企業永續責任。

根據CEPN公布資料，優先關注化學品主要聚焦於電子產業常用之溶劑、清洗劑與脫脂劑，這些化學品多具有高揮發性，且與致癌性、生殖毒性、神經毒性或長期器官損害等健康危害有關，因此被列為電子產業應優先推動替代的重點化學品。

此外，CEPN亦強調，優先關注化學品的篩選除了考量危害特性外，也納入電子產業實際使用情形與替代方案可行性評估。TZE倡議不僅是單純的禁限用清單，而是希望建立一套有效可運用的製程化學品管理架構，協助企業逐步朝向更安全的化學品管理與製程轉型。從目前國際品牌商與大型電子企業的永續要求趨勢來看，製程化學品管理能力、工作者暴露風險控制，以及供應鏈資訊揭露，已逐漸成為評估供應商 ESG 與職業安全衛生（OHS）管理成熟度的重要指標。

對我國電子、半導體、印刷電路板、表面處理與化工供應鏈廠商而言，TZE倡議雖非強制性法規，但其背後反映的是國際品牌商與市場逐漸形成的供應鏈管理趨勢。未來不排除相關要求將逐步納入客戶稽核、供應商評鑑、綠色採購或永續揭露機制中。我國企業宜及早盤點製程中使用之高風險溶劑與清洗劑，建立化學品替代與減量規劃，同時強化工作場所暴露控制、危害通識、供應鏈資訊管理與替代物質評估能力。若能提前導入相關管理實務，不僅有助於回應國際客戶對永續供應鏈與工作者健康保護的要求，也能降低未來因化學品管理趨嚴所帶來的轉換風險與市場壓力。

TZE第三輪優先關注化學品：

英文名稱	中文名稱	CAS No.
1,1,2-Trichloroethane	1,1,2-三氯乙烷	79-00-5
1,1-Dichloroethane	1,1-二氯乙烷	75-34-3
1,1-Dichloroethylene	1,1-二氯乙烯	75-35-4
1,2-Dichloropropane	1,2-二氯丙烷	78-87-5
1-Ethylpyrrolidin-2-one; NEP	1-乙基-2-吡咯啶酮	2687-91-4
2-(2-Methoxyethoxy)ethanol; DEGME	二甘醇單甲醚; 二乙二醇單甲醚	111-77-3
2-Methoxyethyl acetate; Ethylene glycol monomethyl ether acetate	乙二醇甲醚醋酸酯	110-49-6
Hydrotreated light straight run (petroleum)	加氫處理輕石腦油(石油)	64742-49-0
Ligroine (petroleum naphtha)	石油醚	8032-32-4
N,N-Dimethylacetamide; DMAC	二甲基乙醯胺	127-19-5